Оборудование

Дифференциальный сканирующий калориметр Shimadzu DSC-60.jpg

Страна изготовитель - Япония

Производитель - Shimadzu corporation

Марка - Shimadzu DSC-60

Год - 2007

Назначение:

  • Оценка свойств и контроля качества материалов,
  • Определение теплоты фазового перехода образца

Основные характеристики:

Температурный диапазон

-150 до 600ºС

Диапазон тепловой мощности

±40 мВт

Программируемые шаги

0-99 ºK/мин (ºK/час)

Время удержания температуры

0-999 мин (час)

Время охлаждения

Около 6 мин от 600ºС до 40ºС используя жидкий
азот

Уровень шума

31 мкВт

Атмосфера

Инертный газ или воздух

Количество образцов
DSC-60
DSC-60A

1 образец
24 образца

Габариты

Ш:300 x Г:490 x В:290 мм

Область применения в наноиндустрии:

  • Нанобиотехнологии
  • Химия и химические технологии
  • Анализаторы




Страна изготовитель - Германия

Производитель - Bruker

Марка - Bruker ADVANCE 400 МГц

Год - 2007

Назначение:

  • Проведение качественного и количественного анализа индивидуальных соединений и многокомпонентных систем, исследования химического строения органических молекул и их комплексов, молекулярной структуры, характера химических связей, межмолекулярных взаимодействий и различных форм внутреннего движения.
  • Определение трехмерного стереохимического строения молекул и конформационный анализ.
  • Исследование динамики молекул, межмолекулярного взаимодействия, механизмов химических реакций. Исследование динамических процессов (химический обмен).
  • Установление структуры новых синтезированных веществ и индивидуальных соединений природного происхождения;
  • Количественное определение микропримесей в образце;

Возможности:

  • исследования ядер 1H, 11B, 13C, 15N, 19F, 29Si, 31P, 33S, 77Se в широком температурном диапазоне от -100 0С до 200 0С, включая двумерную спектроскопию и инверсные методики.
  • Кинетические исследования;
  • Конформационные исследования полимеров,
  • Установление их степени сополимеризации;
  • Исследование нефтей и различных нефтяных концентратов.

Основные характеристики:

  • импульсный режим с преобразованием Фурье,
  • сверхпроводящая магнитная система, активноэкранированная, с конфигурацией дьюара для длительного удержания гелия (не менее 360 дней),
  • оборудованная системой подавления вибрации (от 3 Гц).
  • ЯМР 1Н (400 МГц) и 13С (150.86 МГц).

Область применения:

  • Нанобиотехнологии;
  • Химия и Химические технологии.



Страна изготовитель - Германия

Производитель - Bruker

Марка - Bruker D8 ADVANCE

Год - 2007

Назначение:

  • Проведение качественного и количественного анализа кристаллических фаз,
  • Установление кристаллической структуры неорганических, органических, элементоорганических и металлокомплексных соединений в поликристаллической форме, состава поликристаллических материалов, степени кристалличности полимеров,
  • Анализ веществ в порошковом виде.

Возможные исследования:

  • исследования состава ЭОС,
  • исследования физико-химических характеристик ЭОС и материалов на их основе.

Методы исследования:

  • Метод съёмки:
  • Брэгг-Брентано или параллельно-лучевая оптика с использованием зеркала Гёбеля.

Основные характеристики:

  • Широкоугловой гониометр с возможностью измерения в геометрии Theta-Theta; Диапазон углов регистрации в градусах от -110 до 168 по 2Theta;
  • Диаметр гониометра 430 мм с наличием нескольких измерительных диаметров; Шаг измерений по осям Theta и 2Theta 0.00001 градуса.
  • Генератор мощностью 3кВт с возможностью регулирования напряжения от 20 до 50 кВ (с шагом 1кВ) и тока от 5 до 120 мA (с шагом 1мА).
  • Возможность использования керамических и стеклянных рентгеновских трубок европейского стандарта.
  • Рентгеновские трубки с материалом зеркала анода: Fe (0.194нм), Cu (0.154нм), Mo (0.71нм).
  • Монохроматоры, специализированные для излучений каждой трубки.
  • Возможность проводить исследования образцов в интервале температур от –190оС до +450оС;
  • Режим съемки пошаговый или непрерывный.
  • Комплектация включает сверхскоростной позиционно-чувствительный детектор VANTEC-1.
  • Пакет программ позволяет с высокой точностью определять атомные структуры объектов неорганического, органического, металлоорганического и биоорганического происхождения.

Область применения:

  • Нанобиотехнологии;
  • Химия и химические технологии.


ИК-Фурье спектрометр Bruker Vertex 70.jpg

Страна изготовитель - Германия

Производитель - Bruker

Марка - Bruker Vertex 70

Год - 2007

Сокращенное наименование единицы оборудования: ИК - КР спектрометр

Назначение:

  • Проведение качественного и количественного анализа твердых, жидких и газообразных образцов,
  • Контроль качества продукции по ИК и КР спектрам.

Методы исследования:

  • Инфракрасная спектроскопия,
  • Спектроскопия комбинационного рассеяния.

Основные характеристики:

  • Спектральный диапазон: 7500 ~ 200 см -1,
  • Разрешение: от 0,4 см -1,
  • Погрешность установки длины волны: ± 0,01 см -1,
  • Фотометрическая точность: ± 0,01% T,
  • Отношение сигнал/шум: > 7000:1

Область применения:

  • Нанобиотехнологии;
  • Нанотехнологии для систем безопасности;
  • Химия и химические технологии.




Страна изготовитель - Япония

Производитель - Shimadzu corporation

Марка - ICPE-9000

Год - 2008

Сокращенное наименование единицы оборудования: Атомно-эмиссионный спектрометр с индуктивно связанной плазмой.

Назначение:

  • Анализ пробы неизвестного качественного и количественного состава,
  • Определение качественного и количественного элементного состава твёрдых и жидких образцов, порошков, гранул, пластин, плёнок.

Возможные исследований:

  • Диапазон определяемых элементов от Na до U с пределом обнаружения на уровне 10-9 % вес.
  • Определение состава элементов в природных объектах, биологических образцах,
  • Количественный анализ неизвестных материалов, тонких пленок и органических веществ.

Методы исследований:

  • Метод фундаментальных параметров

Основные характеристики:

  • Первый в мире вакуумируемый ICP-спектрометр с CCD-детектором с оптической схемой Эшелле-спектрометра.
  • Надежный анализ пробы неизвестного качественного и количественного состава.
  • Единственный в мире ICP-спектрометр, обеспечивающий качественный и прецизионный количественный анализ без предварительного задания аналитических линий. Требуется только перечень определяемых элементов.
  • Чувствительность и диапазон линейности
  • ICPE-9000 обеспечивает определение большинства элементов на уровне 1-10 ppb и ниже при диапазоне линейности 5-6 порядков.
  • Термостатируемый, вакуумируемый спектрометр.
  • Температура спектрометра поддерживается с точностью ± 0,10 С. Давление внутри спектрометра не более 10 Па. Все это обеспечивает высочайшую стабильность даже при длительных измерениях.
  • Вертикально расположенная мини-горелка и аксиальное наблюдение плазмы обеспечивают максимальную чувствительность. Возможно опционное использование вертикальной горелки с радиальным наблюдением плазмы.
  • Низкошумящий, высокочувствительный CCD-детектор (1024 х 1024 пикселя) обеспечивает высокое спектральное разрешение и высокую светосилу. Детектор работает при сравнительно высокой температуре (минус 150С), что сокращает время начальной инициализации.
  • Благодаря программному обеспечению, ICPE-9000 позволяет надежно анализировать даже пробы с большим количеством определяемых и влияющих элементов, для анализа которых обычно используют спектрометры последовательного действия с высоким спектральным разрешением.

Программное обеспечение ICPEsolution обеспечивает:

  • быстрый и надежный качественный анализ с помощью встроенной базы данных длин волн и спектральных влияний для всех элементов с автоматическим выбором длин волн, наименее подверженных спектральным влияниям
  • определение всех сопутствующих элементов и автоматическую коррекцию влияний
  • оценку концентрационных диапазонов определяемых и сопутствующих элементов, автоматический выбор способов коррекции
  • выдачу состава образца для калибровки
  • автоматический выбор одного, наиболее оптимального результата анализа среди данных, полученных при измерениях на разных длинах волн
  • диагностику природы влияний
  • внесение поправок в результаты уже после измерений
  • количественный анализ: надежное определение даже трудноопределяемых элементов в пробах со сложной основой.

Технические характеристики

Плазменный источник излучения

Блок горелки

Аксиальное наблюдение (опционно: двойной обзор
плазмы - аксиальное или радиальное наблюдение)

Распылительная камера

Циклонного типа

Горелка

Вертикально расположенная мини-горелка и обычная
горелка

Распылитель

С коаксиальным наблюдением

ВЧ-генератор

Осциллятор

Кристаллический

Частота

27,12 МГц

Мощность

До 1,6 кВт

Стабильность

Не хуже 0,3%

ВЧ-блок

Транзисторный

Поджиг

Автоматический

Настройка

Автоматическая

Спектральный блок

Оптическая схема

Эшелле-спектрометр

Спектральный диапазон

167 - 800 нм

Детектор

2-мерный полупроводниковый (ССD),
более 1000000 пикселей на квадратный дюйм

Разрешение

Не хуже 0,005 нм (при 200 нм)

Тип спектрального блока

Вакуумный, термостатируемый

Размеры

1350 x 760 x 740 мм (Ш х Г х В)

Вес

270 кг

Область применения:

  • Нанотехнологии для систем безопасности
  • Химия и химические технологии




Страна изготовитель - Япония

Производитель - Shimadzu corporation

Марка - EDX-800HS

Год - 2008

Назначение:

  • Определение качественного и количественного элементного состава твёрдых и жидких образцов, порошков, гранул, пластин, плёнок.

Методы исследований:

  • Метод фоновых фундаментальных параметров

Основные характеристики:

  • Диапазон определяемых элементов от С до U с пределом обнаружения на уровне 10-9 % вес.
  • Большая кюветная камера предназначена для анализа образцов диаметром до 300 мм и высотой до 150 мм.
  • Программное обеспечение позволяет определять толщину и элементный состав тонких плёнок и покрытий.
  • Метод фоновых фундаментальных параметров позволяет анализировать плёнки органической природы.
  • Пять типов первичных фильтров минимизируют влияние фона, что увеличивает соотношение сигнал/шум и значительно улучшает пределы обнаружения элементов в образцах различной природы.
  • Программа сопоставления состава использует библиотеки данных и исключает необходимость наличия стандартных образцов для количественного анализа.

Область применения:

  • Нанобиотехнологии;
  • Нанотехнологии для систем безопасности,
  • Химия и химические технологии.




Генетический анализатор (секвенатор) ДНК 3130 XL.jpg

Страна изготовитель - США

Производитель - Applied Biosystems

Марка - 3130 XL

Год - 2008

Сокращенное наименование единицы оборудования: Генетический анализатор (секвенатор) ДНК

Назначение:

  • расшифровка последовательности ДНК любых организмов.

Возможные исследования:

  • автоматизацию секвенирования ДНК и возможность работы 24 часа без оператора

Основные характеристики:

  • Выполняется анализ 16 образцов ДНК одновременно.
  • Капилляры с внутренним покрытием, длиной 36, 50 и 80 см.
  • В качестве разделительных матриц используются полимеры POP-4 и POP-7.
  • Лазер: аргонно-ионный многолучевой, с возбуждением 488 и 514.5 нм.
  • Напряжение при электрофорезе До 20 kV.
  • Рабочая область температур от 180С до 650С.
  • Потребляемый ток - 15А,
  • Мощность - 2 кВт.

Область применения:

  • Молекулярная биология;
  • Нанобиотехнологии;
  • Нанотехнологии для систем безопасности.

Страна изготовитель - США

Производитель - Agilent

Марка - Agilent 7890А

Год - 2008

Сокращенное наименование единицы оборудования: Газовый хроматограф

Назначение:

  • Качественный и количественный анализ многокомпонентных смесей органических и элементорганических соединений

Область применения в наноиндустрии:

  • Нанобиотехнологии;
  • Нанотехнологии для систем безопасности,
  • Химические технологии.



Жидкостный хроматограф LC-20AD с масс-спектрометрическим детектором LCMS-2010 в комплекте.jpg

Страна изготовитель - Япония

Производитель - Shimadzu corporation

Марка - LC-20AD

Год - 2007

Сокращенное наименование единицы оборудования: Жидкостный хроматограф - МСД

Назначение:

  • разделение, анализ и идентификация органических соединений различных классов (синтезированные, выделенные из природных объектов).

Основные характеристики:

  • тип градиента: высокого давления,
  • диапазон скорости потока элюента: 0,0001-10 мл/мин,
  • тип насоса: параллельный двойной плунжерный,
  • количество смешиваемых растворителей: 2,
  • объем пробы: от 0,1мкл до 100 мкл,
  • тип детектора: спектрофотометрический,
  • диапазон длин волн: 190 нм - 700 нм.

Область применения:

  • Нанобиотехнологии;
  • Нанотехнологии для систем безопасности.



Гематологический анализатор Cell Dyn 3700 с набором реагентов на 10000 анализов.jpg

Страна изготовитель - США

Производитель - Abbot

Марка - Cell Dyn 3700

Год - 2008

Сокращенное наименование единицы оборудования: Гематологический анализатор

Назначение:

  • Анализ крови человека и животных (мышей, крыс, кроликов, кошек, собак) по множеству параметров,

Возможные исследования:

  • исследования венозной, каппилярной крови и ликвора,
  • одновременное определение абсолютного количества эритроцитов, лейкоцитов, абсолютное и относительное количество нейтрофилов, лимфоцитов, моноцитов, эозинофилов, базофилов, содержание гемоглобина, гематокрит, средний клеточный объем и другие показатели.

Основные характеристики:

  • Производительность – образцов в час – 90
  • Объем пробы в открытом режиме – микролитры – 120
  • Объем пробы в закрытом режиме - микролтиры - 210

Область применения:

  • Нанобиотехнологии;
  • Нанотехнологии для систем безопасности.



Страна изготовитель - США

Производитель - Agilent

Марка - Agilent 2100

Год - 2008

Сокращенное наименование единицы оборудования: Биоанализатор для анализа нуклеиновых кислот и белков.

Назначение:

  • Усовершенствованный анализ нуклеиновых кислот, белков, и клеток с возможностью одновременного анализа множества образцов за короткий промежуток времени,
  • Анализ продуктов рестрикции ДНК, продуктов ПЦР, качества и количества РНК.

Возможные исследования:

  • Малое потребление образца,
  • Минимальные затраты на пробоподготовку,
  • Точный качественный и количественный анализ образцов,
  • Получение информации о концентрации (нг/мкл) длине/массе фрагмента.

Основные характеристики:

  • Количество одновременно анализируемых проб – шт – 12
  • Время анализа –– 10-30 мин.

Область применения:

  • Генетика;
  • Нанобиотехнологии;
  • Нанотехнологии для систем безопасности.




Поляризационный спектрофлуориметр модели ISS PC-1 в комплекте.jpg

Страна изготовитель - США

Производитель - ISS

Марка - ISS PC-1

Год - 2007

Сокращенное наименование единицы оборудования: Поляризационный спектрофлуориметр

Назначение:

  • измерения анизотропии, спектров поляризации и синхронной люминесценции при кинетических исследованиях с миллисекундным разрешением

Область применения:

  • Нанобиотехнологии;
  • Химические технологии.




Металлографический микроскоп Zeiss Observer D1m.jpg

Страна изготовитель - Германия

Производитель - Carl Zeiss

Марка - Observer D1m

Год - 2007

Оптический инвертированный универсальный металлографический микроскоп. Общее увеличение 12,5-3200х.

Методы исследования:

  • Светлое поле
  • Темное поле
  • Дифференциально-интерференционный контраст (ДИК)
  • Поляризация
  • Люминесценция.

Области применения:

  • Материаловедческие задачи
  • Морфологический анализ поверхности
  • Фрактографические исследования
  • Характеристика и анализ поверхности широкого спектра материалов
  • Начальные очаги разрушения металла при коррозии, эрозии, износе и других видах внешнего воздействия
  • Измерение линейных размеров микрообъектов
  • Измерение пор и дефектов структуры

Металлографический микроскоп Zeiss Observer D1m  1.jpg

Участок поверхности кремния

Металлографический микроскоп Zeiss Observer D1m 2.jpg


Проточный цитофлуориметр модели BD FACSCalibur в комплекте.jpg

Страна изготовитель - США

Производитель - Бектон Дикинсон

Марка - BD FACSCalibu

Год - 2008

Сокращенное наименование единицы оборудования: Проточный цитофлуориметр

Назначение:

  • Анализ и сортировки популяций и субпопуляций клеток крови человека и экспериментальных животных,

Возможные исследования:

  • Для изучения клеточного цикла, динамики клеточных процессов,
  • Иммунофенотипирование с использованием нескольких красителей,
  • Возможности анализа минорных популяций,
  • анализ стволовых клеток,
  • ДНК-анализ,
  • Изучение функций клеток иммунной системы,
  • Проведение исследований в области генетики и протеомики.
  • Многопараметровая система для решения задач современных клинических и научных лабораторий.

Основные характеристики:

  • Обеспечивает регистрацию до 6 оптических параметров, включая параметры светорассеяния и 4 параметра флуоресценции,что позволяет использовать многоцветные реагенты и оценивать распределение нескольких клеточных маркеров в одной пробе.
  • Конструкция прибора предусматривает возможность установки 1-го или 2-х лазеров с длинами волн 488 нм и 635 нм.
  • Луч лазера 635 нм пространственно отделен от луча аргонового лазера 488 нм, что обеспечивает качественное разделение сигналов без введения параметров цветовой компенсации.
  • Автоматическая система калибровки и настройки для быстрой и точной подготовки прибора к исследованиям.
  • Стандартизация условий измерения гарантирует стабильность и объективность результатов.
  • Специализированная клиническая программа BD MultiSet , позволяющая автоматизировать проведение иммунофенотипирования с использованием трех – и четырехцветных реагентов, создавать индивидуальные панели для автоматического анализа.
  • Автоматически проводится оценка достоверности полученных результатов, индентификация ошибок (внутренний контроль качества).
  • Универсальное программное обеспечение BD CellQuest Pro
  • Дополнительные программы: CBA для количественного определения растворимых форм цитокинов в одном образце, ModFIT для анализа клеточного цикла, пролиферации, поиска анеуплоидных популяций.

Область применения:

  • Нанобиотехнологии;
  • Нанотехнологии для систем безопасности.




Атомный силовой микроскоп-томограф с системой подготовки проб.jpg

Страна изготовитель - Россия

Производитель - NT-MDT

Марка - IntegraTOMO

Год - 2007

Методы исследования:

На воздухе:

  • Сканирующая туннельная микроскопия (СТМ)
  • Сканирующая туннельная спектроскопия (СТС)
  • Атомно-силовая микроскопия (АСМ) (контактная + «полуконтактная» + бесконтактная)
  • Латерально - Силовая Микроскопия (ЛСМ)
  • Отображение Фазы
  • Модуляция Силы
  • Отображение Сопротивления Растекания
  • Магнитно-Силовая микроскопия (МСМ)
  • Электростатическая Силовая Микроскопия (ЭСМ)
  • Сканирующая Емкостная Микроскопия (СЕМ)
  • Метод Зонда Кельвина (МЗК)
  • Отображение Сил Адгезии
  • АСМ Силовая Литография (наногравировка + наночеканка)
  • АСМ Токовая Литография (анодное оксидирование)
  • СТМ Литография
  • Акустическая АСМ (АСАМ)
  • Силовая Микроскопия Пьезоотклика

В жидкости:

  • АСМ (контактная+«полуконтактная»)
  • ЛСМ
  • Отображение Фазы
  • Модуляция Силы
  • Микроскопия Сил Адгезии
  • АСМ Литография

Области применения:

  • Биология и Биотехнология (протеины, ДНК, вирусы, бактерии, эукариоты, ткани)
  • Материаловедение (морфология поверхности, локальные механические, пьезоэлектрические, адгезионные и трибологические характеристики)
  • Магнитные Материалы (доменные структуры, магнитные частицы, магнитные пленки и многослойные структуры, устройства спинтроники, зависимость магнитных свойств от внешнего магнитного поля)
  • Полупроводники (морфология подложек, распределение примесей, гетерограницы и границы p-n переходов, межфазные границы, качество и толщины функциональных слоев)
  • Полимеры и тонкие органические пленки (сферулиты и дендриты, полимерные монокристаллы, блок-сополимеры, политмерные наночастицы, ЛБ-пленки, тонкие пленки)
  • Запоминающие среды и устройства (CD, DVD диски, накопителя терабитных ЗУ с термомеханической, электрической, емкостной и др. типами записи)
  • Наноматериалы (нанопорошки, нанокомпозиты, нанопористые материалы)
  • Наноструктуры (фуллерены, нанотрубки, нанокапсулы)
  • Наноэлектроника (квантовые точки)

Атомный силовой микроскоп-томограф с системой подготовки проб  1.jpg
Изображение структуры
поверхности оксида алюминия

Атомный силовой микроскоп-томограф с системой подготовки проб 2.jpg
Изображение структуры
поверхности мембраны Al2O3.



Лазерный сканирующий конфокальный микроскоп LSM 510 Meta.jpg

Страна изготовитель - Германия

Производитель - Carl Zeiss MicroImaging GmbH

Марка - LSM 510 Meta

Год - 2008

Сокращенное наименование единицы оборудования: Конфокальный микроскоп

Назначение:

  • Проведение исследований на клетках эукариот и прокариот методом лазерной сканирующей конфокальной микроскопии с трехмерным пространственным, временным и спектральным разрешением;
  • Морфологические исследования при работе с фиксированными и живыми объектами.

Возможные исследования:

  • Создание трехмерного (или четырехмерного с учетом временной координаты) изображение образца с элементами объемной реконструкции, анимации и количественного анализа
  • Сканирование методом мультитрекинга, которая позволяет в случае незначительного перекрывания эмиссионных спектров флуоресцентных красителей, последовательно использовать несколько лазерных линий и соответствующих детекционых каналов для получения чистого, разделенного на отдельные компоненты, мультифлуоресцентного изображения
  • Использование вместе с обычным сканированием других технологий (FRAP, FRET с количественной оценкой) для исследования определенного произвольно выбранного участка исследуемого образца (ROI функция) любой геометрической формы благодаря системе AOTF (акустооптический плавнорегулируемый фильтр), которая позволяет мгновенно с шагом в 0,1% изменять интенсивность каждой лазерной линии от 0 до 100%
  • Микроскоп позволяет получить качественное информативное изображение фиксированных объектов, окрашенных флуоресцентными красителями, восстановить трехмерную структуру объекта по сериям конфокальных оптических срезов.
  • Применяется для спектрального анализа. Кроме того, позволяет наблюдать и документировать динамические процессы в живых системах.

Методы исследования:

  • Конфокальная микроскопия,
  • FRET,
  • FRAP,
  • дифференциально-интерференционный контраст (ДИК),
  • обычную люминесценция (365/397 нм; 450-490/515-565 нм; 546/575-640 нм).

Основные характеристики:

  • Установка работает на базе инвертированного микроскопа AxioObserver Z1 (CarlZeiss),
  • Meta-блок,
  • Лазерный модуль
  • аргоновый лазер 30 мВт (458, 477, 488, 514, 514 нм)
  • гелий-неоновый лазер 5 мВт (633 нм)
  • гелий-неоновый лазер 1 мВт (543 нм)
  • диодный лазер 30 мВт (405 нм)
  • Сканирующий модуль
  • скорость сканирования до 5 frames/sec (512 x 512 pixels)
  • формат кадра Max 2048 x 2048 pixels

Область применения:

  • Нанобиотехнология,
  • Биология.




Страна изготовитель - Германия

Производитель - Carl Zeiss

Марка - LSM 510 DUO

Год - 2008

Сокращенное наименование единицы оборудования: Конфокальный микроскоп

Модуль LSM 510 META.

Многофункциональный лазерный сканирующий микроскоп для исследовательских задач, и работы с живыми биологическими объектами.

LSM 5 LIVE DuoScan.

Уникальный ультрабыстрый лазерный сканирующий микроскоп с индивидуальным лазерным манипулятором (DuoScan) для регистрации быстродействующих процессов в режиме «живого» конфокального изображения.

Лазеры с предустановленными, заранее отъюстированными световодами (Pigtail-coupled)

  • Диодный лазер (405 нм, CW/pulsed) 30 мВт
  • Диодный лазер (440 нм, CW+pulsed) 25 мВт
  • Ar-лазер (458, 488, 514 нм) 25 или 35 мВт
  • HeNe-лазер (543 нм) 1 мВт
  • HeNe-лазер (594 нм) 2 мВт
  • HeNe-лазер (633 нм) 5 мВт
  • Диодный лазер (488 нм) 100 мВт
  • Диодный лазер (635 нм) 35 мВт
  • Фемтосекундный лазер Coherent Chameleon, Диапазон перестойки 690-1040 нм, 3 Вт

Области применения

  • Биология
  • Вирусология
  • Медицина
  • Материаловедение
  • Криминалистика
  • Морфологические исследования при работе с фиксированными и живыми объектами

Микроскоп позволяет получить качественное информативное изображение фиксированных объектов, окрашенных флуоресцентными красителями.
Восстановить трехмерную структуру объекта по сериям конфокальных оптических срезов.
Позволяет наблюдать и документировать динамические процессы в живых системах.




Сканирующий электронный микроскоп Carl Zeiss Ultra 55+.jpg

Страна изготовитель - Германия

Производитель - Carl Zeiss

Марка - Carl Zeiss Ultra 55+

Год - 2009

Сокращенное наименование единицы оборудования: СЭМ

Основные характеристики

Пространственное раз-
решение

1.0 нм при 15 кВ
1.7 нм при 1 кВ
4.0 нм при 0.1 кВ

Диапазон увеличений

12х – 900 000х в режиме вторичных электронов
100х – 900 000х в режиме обратно рассеянных электронов

Источник электронов

Автоэмиссионный (термоэмиссионного типа).
Стабильность лучше, чем 0.2% в час

Диапазон ускоряющих
напряжений

100 В – 30 000 В

Диапазон рабочих
токов

4 пА – 20 нА

Встроенные детекторы

1) EsB с сеточным фильтром (напряжения на сетке 0 - 1500В)
2) AsB
3) In-lens SE
4) Детектор вторичных электронов Эвернхарта-Торнли
5) ИК-камера для обзора рабочей камеры

Детекторы и приставки:

  • EsB с сеточным фильтром
  • AsB
  • In-lens SE
  • SE – детектор
  • Энергодисперсионный детектор Oxford Instruments X-MAX 80
  • STEM – детектор
  • Детектор обратно рассеянных электронов (EBSD) HKL Channel 5 на базе камеры Nordlys II

Методы исследования:

  • Растровая электронная микроскопия сверхвысокого разрешения
  • Просвечивающая растровая электронная микроскопия
  • Низкие ускоряющие напряжения (до 100В)
  • Энергодисперсионный рентгеновский микроанализ
  • Исследование непроводящих материалов используя систему компенсации заряда
  • Фильтрация электронов по энергии




Сканирующий электронный микроскоп Carl Zeiss Ultra 55+.jpg

Страна изготовитель - Германия

Производитель - Carl Zeiss

Марка - Carl Zeiss EVO 60

Год - 2007

Сокращенное наименование единицы оборудования: СЭМ

Основные характеристики

Пространственное разрешение

Диапазон ускоряющих напря-
жений

3.0 нм (2 нм) при 30 кВ – SE режим и W (катод
LaB6 – гексаборид лантана);

4.5 нм при 30 кВ – BSD (в режиме VP);

15 нм при 30 кВ – 1 нА, катод LaB6 – гексаборид
лантана

20 нм (15нм) при 1кВ SE режим и W (катод
LaB6 – гексаборид лантана);

10 нм при 3 кВ – SE режим.

0.2 – 30 кВ

Диапазон увеличений

5х – 1 000 000х

Встроенные детекторы

BSD детектор
ETSE - детектор вторичных электронов
Эвернхарта-Торнли

Детекторы и приставки:

  • SE детектор
  • BSE детектор
  • Рентгеновский энергодисперсионный микроанализ (EDX) – Oxford Instruments Energy 350
  • Рентгеновский волновой микроанализ (WDX) – Oxford Instruments Wave 500
  • Столики для образцов с возможностью нагрева до +500º С и охлаждения до -170ºС

Методы исследования:

  • Растровая электронная микроскопия
  • Энергодисперсионный рентгеновский микроанализ
  • Рентгеновский микроанализ с дисперсией по длине волны
  • Исследования структуры и состава при низком вакууме 10-750 Па (XVP)
  • Исследование динамики структуры и состава при нагреве и охлаждении
  • Исследования структуры и состава в среде водяного пара и естественных условиях 750-3000Па (EP)
  • Исследования непроводящих материалов


Сканирующий электронный микроскоп Carl Zeiss CrossBeam 1540XB.jpg

Страна изготовитель - Германия

Производитель - Carl Zeiss

Марка - Carl Zeiss CrossBeam 1540XB

Год - 2007

Сокращенное наименование единицы оборудования: СЭМ

Основный технические характеристики

SEM

FIB

Пространственное
разрешение

Колонна Gemini
1.1 нм при 20 кВ
2.5 нм при 1 кВ

Колонна SIINT 100 mm zeta
FIB
4нм при 30кВ

Диапазон увеличений

До 900 000x

До 500 000x

Диапазон рабочих токов

4 пA - 20 нA

< 0.1 пA - 45 нA

Диапазон ускоряющих
напряжений

0.1 - 30 кВ

5 - 30 кВ
от 1 кВ до 5 кВ (опционально)

Источник электронов/
ионов

Автоэмиссионный
(термоэмиссионного типа)

Автоэмиссионный Ga (LMIS)

Встроенные детекторы

Внутриколонный: EsB детектор обратно рассеянных электронов с сеточным фильтром (напряжение на сетке 0 – 1500В)
Внутрилинзовый: SE детектор вторичных электронов
Рабочая камера:
Детектор вторичных электронов Эвернхарта-Торнли;
ИК-камера для обзора рабочей камеры;
4Q BSE детектор (опционально); GEMINI
многорежимный BF/DF STEM детектор (опционально)

Детекторы и приставки:

  • Детекторы: SE и InLense SE, детектор STEM
  • Система фокусированного ионного пучка FIB
  • Система осаждения из газовой фазы – GIS
  • Детектор обратно рассеянных электронов (EBSD) HKL Channel 5 на базе камеры Nordlys II
  • Энергодисперсионный детектор Oxford Instruments X-MAX 80, разрешение по энергии 120-130 эВ
  • Масс-спектрометр вторичных ионов EQS 1000
  • Микроманипулятор Kleindiek Nanotechnik

Методы исследования:

  • Растровая электронная микроскопия высокого разрешения
  • Просвечивающая растровая электронная микроскопия
  • Ионная сканирующая микроскопия
  • Низкие ускоряющие напряжения (до 100В)
  • Энергодисперсионный рентгеновский микроанализ
  • Кристаллографический анализ
  • Масс-спектрометрия вторичных ионов
  • Подготовка поперечных сечений фокусированным ионным пучком
  • Анализ трехмерной структуры объектов с помощью FIB
  • Трехмерный анализ структуры и состава (3D EBSD, 3D EDX, SIMS)
  • Подготовка образцов для ПЭМ


Просвечивающий электронный микроскоп Carl Zeiss Libra 200FE.jpg

Страна изготовитель - Германия

Производитель - Carl Zeiss

Марка - Libra 200FE

Год - 2008

Сокращенное наименование единицы оборудования: ПЭМ

LIBRA 200FE Основные характеристики

Диапазон
ускоряющих
напряжений

120 кВ - 200 кВ

Система
освещения
образца

Передовая система освещения образца по Кёлеру

Линзы объектива

Симметричный тип

Разрешение

Высокое раз-
решение (HR)

Высокий
наклон (HT)

Точка-точка

0.24 нм

0.29 нм

Информационный предел

<0.14 нм

<0.19 нм

Сканирующая просвечиваю-
щая электронная микроскопия
(STEM):

<0.30 нм

<0.45 нм

Спектрометр

Встроенный в колонну, полностью фабрично сьюстированный и настроенный ОМЕГА-типа
Дисперсия: 1.85 m/эВ  200 кВ
Энергетическое разрешение: <0.7 эВ
Искажение: <1.5 %
Угол объектива камеры: 100 мрад  Δ = ±5 эВ
Изохроматичность: <0.5 эВ в 2.5 m Ø

Рабочий столик

Полностью эвцентрический гониометр с 5 степенями свободы;
Диапазон наклона α/β:
±30° / ±30° (HR)
±70° / ±30° (HT)

Обработка
изображений

Проектор состоит из двух групп (по 3 линзы в каждой), одна из которых находится перед
энергетическим фильтром, а вторая после него, что позволяет получать изображение без вращения

Увеличение

Просвечивающая электронная микроскопия (TEM): 8x - 1,000,000x
Сканирующая просвечивающая электронная микроскопия (STEM): 2,000x - 5,000,000x
Отображение спектра энергетических потерь электронов (EELS): 20x - 315x

Режимы
применения

TEM - просвечивающая электронная микроскопия
EFTEM - просвечивающая электронная микроскопия с использованием энергетического фильтра
EELS - спектроскопия энергетических потерь электронов
Elemental Contrast and Analysis - элементный контроль и анализ
CBED/LACBED
EDS – энергодисперсионный анализатор
STEM - сканирующая просвечивающая электронная микроскопия (BF-светлое поле/DF-темное поле/HAADF-центрированное темное поле при больших углах)

Детекторы и приставки:

  • Энергодисперсионный рентгеновский спектрометр (EDX)
  • Омега-фильтр, Дисперсия: 1.85 m/эВ @ 200 кВ, энергетическое разрешение: <0.7 эВ
  • HAADF/STEM

Держатели образцов:

  • Держатель образцов GATAN Model 652, возможность нагрева до 1100º C
  • Держатель образцов GATAN Model 636, возможность охлаждения до -170º C
  • Двухосевой томографический держатель Fischione model 2040

Методы исследования:

  • Высокоразрешающая электронная микроскопия (HREM)
  • Просвечивающая электронная микроскопия (TEM)
  • Сканирующая просвечивающая электронная микроскопия (STEM)
  • ПЭМ с фильтрацией по энергиям (EFTEM)
  • Электронная дифракция (ED)
  • ED в сходящемся пучке (CBED)
  • Аналитическая электронная микроскопия (EELS, EDS)
  • Z-контраст
  • Наблюдение объекта в диапазоне температур от -170С до +1100С

Области применения прибора Carl Zeiss Libra 200 FE

  • Атомная структура материалов, устройств наноэлектроники
  • Характеризация кристаллической решетки и химической природы нанообъектов
  • Локальный анализ элементного состава
  • Поэлементное картирование структуры
  • Идентификация дефектов кристаллической решетки полупроводниковых материалов
  • Тонкая структура биологических объектов
  • Исследование динамики структуры материалов в процессе нагрева и охлаждения.
  • Электронная томография
  • Исследования распределения наночастиц, дефектов структуры

Просвечивающий электронный микроскоп Carl Zeiss Libra 200FE 1.jpg
Поперечное сечение многослойной структуры Si/Fe.


Просвечивающий электронный микроскоп Carl Zeiss Libra 200FE 2.jpg
Наночастицы золота размером 10 нм.

Просвечивающий электронный микроскоп Carl Zeiss Libra 200FE 3.jpg
Томографическая реконструкция структуры аморфного сплава CoNiP, выполненная c применением вейвлет фильтрации.

Просвечивающий электронный микроскоп Carl Zeiss Libra 200FE 4.jpg Просвечивающий электронный микроскоп Carl Zeiss Libra 200FE 5.jpg
Смоделированные ПЭМ изображения кластера α-Fe в аморфной матрице FeB20.



Страна изготовитель - Германия

Производитель - SUSS MicroTec

Марка - PM5

Год - 2008

Сокращенное наименование единицы оборудования: зондовая станция PM5

Назначение:

  • Исследование вольт-амперных характеристик с высоким пространственным разрешением,
  • измерение магнитосопротивления в полях до 4 кЭ.

Возможные исследования:

  • Измерения с использование до 6 зондов
  • Возможность проведения измерений сигналов в гигагерцовом диапазоне.
  • Измерение продольного и поперечного магнитоспротивления
  • Анализ пластин и подложек до 150 мм (6 дюймов),
  • Измерение в широком спектре постоянного тока и высоких частот.

Область применения: Наноэлектроника.




Страна изготовитель - Россия

Производитель - НТМ-ДТ

Марка - Ntegra Spectra

Год - 2007

Сокращенное наименование единицы оборудования: Сканирующий микроскоп НТЕГРА Спектра.

Назначение: Исследование топологии и элементный состав поверхности.

Возможные исследования:

  • Измерение параметров рельефа поверхности наноструктурированных объектов

Методы исследования:

  • Методика измерения шероховатости поверхности образцов,
  • Методика исследования магнитной микроструктуры образцов
  • Использование методов АСМ (топография, измерения поверхностной проводимости, магнитная-силовая микроскопия и т.д.);
  • Оптической микроскопия: поляризованная микроскопия, микроскопия белого света и флюоресцентная;
  • Исследование процессов переноса энергии (распространение света в на нотрубках и оптоволокне).

Основные характеристики:

  • Высокое разрешение оптического микроскопа (0,25 мкм);
  • Оптическое разрешение до 0,07 нм (конфокальная лазерная микроскопия, конфокальная рамановская микроскопия).

Область применения: Наноэлектроника.




Страна изготовитель - Россия

Производитель - НТМ-ДТ

Марка - NtegraAura

Год - 2007

Сокращенное наименование единицы оборудования: Сканирующий зондовый микроскоп

Назначение:

Исследование рельефа поверхности и магнитной структуры широкого спектра материалов, в том числе и наноструктур.

Дополнительные комплектующие:

  • источник магнитного поля до 2 кГаусс,
  • термостолик, нагрев образца до 130 оС.

Основные характеристики: Измерения в условиях вакуума до 10-2 Торр.

Методики имерений:

На воздухе:

  • СТМ
  • Низкотоковая СТМ
  • Туннельная Спектроскопия
  • Контактная АСМ
  • МЛС
  • Резонансная АСМ (полуконтактная + бесконтактная)
  • Метод отображения Фазы
  • Метод модуляции силы
  • Изображение Силы Адгезии
  • Отображение сопротивления растекания
  • СЕМ
  • МЗК
  • МСМ
  • ЭСМ
  • Поперечно-силовая микроскопия
  • АСМ (Силовая + Токовая),
  • СТМ литография,
  • RM литография.

В жидкости:

  • Контактная АСМ
  • Микроскопия Боковых Сил
  • Метод Модуляции силы
  • Изображение Силы Адгезии
  • Полуконтактная (scanner-driven) АСМ/ АСМ (Силовая) Литография.

ИЗМЕРЯЕМЫЙ ПАРАМЕТР*   Толщина
ЕДИНИЦА ИЗМЕРЕНИЯ*          Нм
Количество измерений: *       30
Загрузка (час.) *                       150

Область применения: Наноэлектроника.



Магнитооптический магнетометр «НаноМОКЕ-2».jpg

Страна изготовитель - Великобритания

Производитель - Oxford Instrument NanoScience

Марка - NanoMOKE

Год - 2007

Сокращенное наименование единицы оборудования: Магнитооптический магнитометр

Назначение: Определение характеристик массива наноразмерных магнитных кластеров.

Измеряемые параметры:

  • Продольный, поперечный и полярный эффект Керра;
  • Вращение эллиптичности;
  • Построение петель гистерезиса.

Основные характеристики:

  • Частота регистрации петель регулируемая до 1000 Гц;
  • Диаметр пятна лазера не более 3 мкм;
  • Чувствительность 10-12 э.м.е.

Область применения: Наноэлектроника.



СКВИД-магнитометр MPMS XL-5.jpg

Страна изготовитель - США

Производитель - Quantum Design

Марка - MPMS XL-5

Год - 2007

Сокращенное наименование единицы оборудования: СКВИД магнетометр

Назначение: Изучение магнитных свойств наноструктур (квантовых точек, квантовых проволок, атомарных слоев), биологических объектов, геологических пород.

Возможные исследования:

  • измерение магнитных, магниторезистивных и оптоэлектронных свойств в диапазоне температур от 1,7 до 800 К
  • определение анизотропии магнитных свойств.

Измеряемые параметры:

  • DC намагниченность,
  • AC восприимчивость,
  • гистерезис,
  • угловая зависимость магнитного момента,
  • удельное электрическое сопротивление,
  • эффект Холла,
  • магнитосопротивление,
  • оптическая восприимчивость.

Основные характеристики:

  • Сверхпроводящее квантовое интерференционное устройство,
  • Напряженность биполярного магнитного поля ±5 Тесла,
  • Диапазон температур 1.9 ÷400 К,
  • Чувствительность измерения DC намагниченности лучше 10-8 э.м.е.,
  • Чувствительность измерения AC магнитной восприимчивости лучше 10-8 э.м.е.

Область применения: Наноэлектроника.




Страна изготовитель - Германия

Производитель - Omicron Nanotechnology

Марка - Omicron

Год - 2008

Сокращенное наименование единицы оборудования: Сверхвысоковакуумная установка для получения тонких пленок.

Назначение: Получение тонких поликристаллических металлических пленок толщиной до 200 нм.

Основные характеристики:

  • Базовый вакуум в системе 10-11 mТ.
  • Оборудование для напылительной камеры:
  • Две высокотемпературные эффузионные ячейки (ячейка оборудована независимым вольфрамовым катодом прямого накала для тигля объемом 1,5см3 и максимальной температуры 1900°C),

Система контроля толщины пленки на основе кварцевого датчика

Область применения: Наноэлектроника.



Сверхвысоковакуумная напылительная система «Омикрон» с магнетронными источниками.jpg

Страна изготовитель - Германия

Производитель - Omicron Nanotechnology

Марка - Omicron

Год - 2007

Сокращенное наименование единицы оборудования: Сверхвысоковакуумная напылительная система с магнетронными источниками

Назначение:

  • получение многокомпонентных наноструктур из проводящих и непроводящих материалов методом магнетронного осаждения.

Методы исследования:

  • Методы атомно-силовой микроскопии поверхности твердых тел
  • Методика математической обработки спектральных данных

Основные характеристики

Вакуумная система:

  • Вакуумная система из основной камеры и камеры загрузки.
  • Базовое давление в системе в диапазоне 10-9 Торр.

Магнетронные источники:

  • 4 источника для магнетронного распыления DC&RF.
  • Диаметр мишеней 2 дюйма.

Держатель для крепления подложек:

  • Держатель с возможность вращения образца и косвенного прогрева до 3000 С.

Система управления напуском газа:

  • Контроль газового потока (до 4-х видов газов) с величиной от 0 до 200 sccm.

Система контроля толщины пленки:

  • На базе кварцевого кристалла для контроля процесса осаждения тонкой пленки.

Область применения: Наноэлектроника.



Сверхвысоковакуумный комплекс «Омикрон».jpg

Страна изготовитель - Германия

Производитель - Omicron Nanotechnology

Марка - Omicron

Год - 2007

Сокращенное наименование единицы оборудования: СВВ комплекс «Омикрон»

Назначение: получение наноструктур с помощью молекулярно-лучевых испарителей, эффузионных ячеек, а также их исследования методами атомной силовой и туннельной микроскопиями, спектроскопии характеристических потерь энергии электронами, дифракции быстрых электронов и др.

Возможные исследования:

  • Получение ультратонких магнитных пленок на кремнии и исследование особенностей ростовых процессов, изучение нанокластеров металлов на кремнии

Методы исследования:

  • Метод формирования объектов в тонких магнитных пленках на поверхности кремния

Основные характеристики:

  • Базовый вакуум в системе 10-11 mB.

Оборудование напылительной камеры:

Электронно-лучевой испаритель (предназначен для субмонослойного и мультислойного роста тонких пленок с автоматизированным процессом управления);
Высокотемпературная эффузионная ячейка:

  • независимый вольфрамовый катод прямого накала
  • объем тигля - 1,5см3,
  • максимальная температура - 1900°C

Низкотемпературная эффузионная ячейка:

  • Та проволокой в качестве нити накала,
  • Объем тигля - 10 см3
  • максимальная температура - 1400°C);

Система RHEED 20 (дифракция быстрых электронов):

  • источник электронов,
  • источник тока 20 кВ c гашением луча,
  • дистанционное управление для фокусировки и позиционирования пучка электронов.

Система контроля толщины пленки на сонове кварцевого датчика.

Оборудование аналитической камеры:

Сканирующий зондовый микроскоп XA 50/500:

  • режим атомной силовой микроскопии и сканирующей туннельной микроскопии, диапазон температур - 50 - 500 К;

Полусферический электронный спектрометр EA 125 U7/1 (методы исследования: XPS, AES, UPS, ISS)

  • Разрешение не менее 10 мэВ,
  • Универсальная линза с возможностью выбора анализируемой области и угла восприятия,
  • скорость регистрации данных > 10 Mcps,
  • диапазон кинетических энергий до 2000 эВ;

Сфокусированный ионный источник ISE 100:

  • ионный ток от 1мкА до 125мкА и от 8мкА до 800мкА,
  • энергия ионов 0,2 – 5кэВ, область сканирования 10x10 мм2.);

Квадрупольный масс-спектрометр Microvision plus 100D:

  • диапазон масс - 1-100 аем,
  • разрешение - <5%.

Страна изготовитель - Великобритания

Производитель - Oxford Instruments

Марка - Рlasmalab 80 Plus

Год - 2009

Система фотолитографии MJB-4.jpg

Страна изготовитель - Германия

Производитель - SUSS MicroTec

Марка - MJB-4

Год - 2008

Сокращенное наименование единицы оборудования: Оптическая литография

Назначение:

  • Формирование шаблонов с разрешением не менее 300 нм

Возможные исследования:

  • Возможность работы с лампами с разными длинами волн и в пяти режимах.

Основные характеристики:

  • режимы контактной литографии:
  • мягкий контакт;
  • жесткий контакт;
  • низковакуумный контакт;
  • вакуумный контакт;
  • контакт с зазором в диапазоне от 0 до 50 мкм;
  • Предельное разрешение не хуже 0.6 мкм при вакуумном контакте.
  • Система экспонирования:
  • Работа при длинах волн 250, 300 и 400 нм.


Система электронной литографии E-line.jpg

Страна изготовитель - Германия

Производитель - Raith

Марка - EBL E-line

Год - 2008

Сокращенное наименование единицы оборудования: Электронный литография

Назначение:

  • Формирование литографических шаблонов с разрешение не менее 10 нм

Возможности:

  • Разрешающая способность электронной колонны не хуже, чем 10 нм при 20 кВ
  • Минимальный размер получаемого элемента поверхности в пределах 15-20 нм

Методы нанесения элементов наноструктур и наноматериалов

  • Физические методы (электронно-лучевые, ионно-плазменные) осаждения слоев нанометровых толщин
  • Плазмохимическое, ионно- и электронно-лучевое модифицирование поверхности

Управляемые методы формирования наноструктур

  • Оптическая литография субмикронного разрешения
  • Электронная литография

Методы и методики диагностики и исследования наноструктур и наноматериалов

  • Сканирующая электронная микроскопия
  • Атомная силовая микроскопия
  • Магнитная силовая микроскопия
  • Оптическая магнитометрия
  • Измерения шероховатости поверхности образцов
  • Исследования магнитной микроструктуры образцов
  • Измерения магнитной анизотропии тонких пленок и наноструктур
  • Измерения коэрцитивной силы магнитных пленок и наноструктур

Область применения: наноэлектроника.




 Оборудование Центра (загрузить в pdf)